Applications Engineer a Oxford Instruments Plasma Technology (Bristol, UK) depuis decembre 2006
Doctorant au GREMI (Groupe de Recherche sur l'Energetique des Milieurx Ionises) a Orleans de 2003 a 2006.
Directeurs de these : P. Ranson et R. Dussart
Sujet : Gravure profonde du silicium par le procede cryogenique - Application a la realisation de trous traversants - Optimisation du procede, mecanismes reactionnels en phase gazeuse et interaction plasma/silicium
Collaboration avec ST Microelectronics Tours et Alcatel Vacuum Technology Annecy
Thomas Tillocher
Applications Engineer
Vernouillet, France
Thomas Tillocher | English | French |
Schools attended |
DEA Energétique (UFR Sciences)(These effectue au GREMI sous la direction de P. Ranson et R. Dussart) |
Université Orléans (ESPEO) |
Université Orléans (UFR Sciences) |
Lycée Carnot (Classe préparatoire (maths sup/ maths spé)) |


